发明名称 --- 一种基于光场的深度估计方法
| 申请号 | CN201510040975.1 |
| 申请日 | 20150127 |
| 公开（公告）号 | CN104598744A |
| 公开（公告）日 | 20150506 |
| IPC分类号 | G06F19/00 |
| 申请（专利权）人 | 北京工业大学; |
| 发明人 | 王立春;樊东灵;孔德慧;尹宝才; |
| 优先权号 | |
| 优先权日 |
| 本发明公开了一种基于光场的深度估计方法，其能够解决初始深度可靠性问题、能量优化过平滑问题。包括步骤：(1)初始深度估计；(2)检测可计算像素；(3)基于水平和垂直方向光场的深度计算；(4)深度信息融合；(5)深度信息传播；(6)重复步骤(3)-(5)，直到当前分辨率的EPI上所有Me值为1的置信像素都得到计算或在传播中得到深度值；(7)将低分辨率下计算得到的深度值逐层复制到高分辨率图像，直到最高分辨率图像中所有像素都有深度值。 |
CN102015000040975CN00001045987440APDFZH20150506CN00E.PDF
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